E720和OE750是突破性的OES金属分析仪。其涵盖了金属*元素的全部光谱，并具有同类产品中较低的检出限。
由于行业法规日益严格，供应链变得复杂以及更多地使用废料作为基础材料，因此铸造厂和金属制造商必须将杂质和痕量元素控制在较低ppm范围内。在过去，这一级别的OES对许多企业而言是遥不可及。日立分析仪器推出的OE系列可改变这一现状。
日立直读光谱仪可用于分析主要合金元素，并识别金属中含量较低的杂质、痕量元素和关心元素，OE750还覆盖了罕见的应用，例如铜中的氧气和钛中的氧气、氮气和氢气。
OE系列的测量速度快、可靠性高且运营成本低，可进行高性价比的日常分析和全面质量控制，其性能可与更大、更贵的光谱仪媲美。
性能优势：
覆盖所有元素，以低检出限进行完整的金属分析
高光学分辨率，可控制杂质和痕量元素
出色的长期稳定性、精度和准确性
OE750：分析气体（钛中的氢和氧，铜中的氧）
购买价格和运行成本合理，性能可与更昂贵的分析仪相提并论
包括全面的金属数据库，可快速，轻松地识别牌号
可选的进料校正软件可实现理想过程控制
与基于云的数据管理的连接
光学系统
LightWing 技术: Paschen-Runge装置的多CMOS光学系统和优化的像素分辨率
焦距: 400 mm
波长: OE720: 174-670* nm / OE750: 119-670* nm (*按需求可至766 nm)
波长实时校准
氩气供应
氩气质量: 最低 4.8 (=99.998 % 氩气) 如果需要进行气体元素分析，则为 5.0 (仅OE750)
输入压力: 3 巴
电源
E100 - 240V AC 50/60 Hz
最大功率: 430 W
待机功率 45 W (光源打开时功率 : 50 W)
读出系统
外部计算机将微软Windows界面与新技术结合在一起
固态数字光源
程序控制的参数
频率: 80 - 1000 Hz
电压: 250 - 500 V
高能预燃技术 (HEPS)
环境数据
温度范围：储存温度: -10° 至 +60°C
工作温度: 0° 至 +40°C
湿度范围: 10 - 90 % (非冷凝)
过程的质量控制和冶炼的验证：分析模式/牌号鉴定
为所有相关的合金、残留物、处理、痕量元素和杂质元素提供较低检出限
铁：合金、铸铁，氮含量低至10 ppm (仅OE750)
铝：合金、铸造合金、锻造合金……
铜：青铜、黄铜、白铜……
镍：哈氏合金、Inconel合金、蒙乃尔合金，氮元素低至20 ppm
钛：纯钛、钛6-4、钛8-锰，包括氢、氧、氮等气体元素 (仅OE750)
镁、钴、铅、锡、锌合金、焊料及其他
